'적외선 흡수분광법' 측정…온실가스 배출·감축량 '더 정확'

세종시 어진동 정부세종청사 환경부 / ⓒ뉴시스DB
세종시 어진동 정부세종청사 환경부 / ⓒ뉴시스DB

[시사포커스 / 이청원 기자] 반도체·디스플레이 업종의 온실가스 배출·감축량을 더 정확히 산정하기 위해 온실가스 공정시험 기준이 개정됐다.

11일 환경부 소속 국립환경과학원은 반도체 및 디스플레이 업종의 주요 온실가스 배출량 및 감축량을 정확하게 산정할 수 있도록 개정한 온실가스 공정시험기준을 12일 공개한다고 밝혔다.

반도체 및 디스플레이 업종의 주요 온실가스는 아산화질소, 수소불화탄소, 과불화탄소, 육불화황, 삼불화질소 등이 있다.

온실가스 공정시험기준은 사업장에서 배출되거나 대기 중에 존재하는 온실가스의 농도를 정확하게 측정하는 데 필요한 시험방법을 뜻한다. 

이번 개정으로 반도체 및 디스플레이 업종에서 배출되는 온실가스 농도를 적외선 흡수분광법으로 측정해 감축 활동에 대한 정량평가가 가능해졌다. 

또한 감축시설의 저감 효율 측정뿐만 아니라 공정 과정 중에 쓰이는 온실가스(육불화황 등)의 사용 비율을 평가하고 이때 발생하는 부생 가스(사불화탄소 등)에 대한 측정까지 가능해진다.

아울러 같은 한 국립환경과학원 한 관계자는 "이번 온실가스공정시험기준 개정은 반도체와 디스플레이 업종의 탄소중립 노력에 대한 정량평가 기준 수립에 의의가 있으며, 앞으로도 이를 활용하여 기술경쟁력뿐만 아니라 온실가스 감축에 대한 선도적인 역할을 수행할 수 있는 기반을 확보하겠다"라고 말했다.

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