삼성전자 ‘반도체비전 2030’…시스템 반도체 133조 투자 및 1만5000명 고용
삼성전자 ‘반도체비전 2030’…시스템 반도체 133조 투자 및 1만5000명 고용
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연평균 11조원 연구개발 및 투자, 42만명 고용유발
국내 중소 펩리스 업체 지원, 반도체 생태계 강화
삼성전자 클린룸 반도체 생산현장 @ 삼성전자
삼성전자 클린룸 반도체 생산현장 @ 삼성전자

[시사포커스 / 강기성 기자] 삼성전자가 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발(R&D) 및 생산시설 확충에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용한다고 24일 밝혔다.

삼성전자가 메모리반도체와 비메모리반도체(시스템반도체)까지 망라해 글로벌 반도체 1위 기업이 되겠다는 ‘반도체비전 2030’에 따른 계획이다.

삼성전자는 2030년까지 국내 연구개발 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다. R&D 투자로 연구개발 인력 양성에도 보탬이 될 것으로 기대되며, 생산시설 투자액은 반도체 생태계 발전에 기여할 전망이다.

화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규라인투자도 추진한다.

또 1만5000명의 시스템반도체 전문인력을 채용할 계획이다.

삼성전자는 2030년까지 이같은 계획이 실행되면 연평균 11조원 R&D 및 시설투자가 집행되고, 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다고 설명했다.

파운드리 분야에 투자해 온 삼성전자는 반도체설계 업체인 국내 팹리스 업체를 지원한다는 방침이다. 설계, 제조, 생산 간 시스템 반도체 산업생태계를 강화한다는 복안이다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP(Intellecture Property, 설계자산), 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한 IP를 지원한다는 방침이다.

국내 중소펩리스업체가 파운드리 서비스를 활용하도록 지원함으로써 펩리스 업체가 개발활동에 부담을 덜어준다는 취지다. 반도체 위탁생산 물량 기준을 완화해 국내 중소 펩리스업체 소량 제품 생산을 지원하겠다는 계획이다.

삼성전자는 MPW(Multi-Project Wafer) 프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대운영하고 국내 디자인 하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나간다고 밝혔다.


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